脉冲激光沉积 （Pulsed laser deposition,
PLD），就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。
在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用较为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。
德国SURFACE公司的PLD-Workstation是用于薄膜沉积的优秀研发设备，利于探索新材料尤其是高级氧化物。
PLD-Workstation将PLD设备中的所有部件包括准分子激光器和激光气体集成到一个简单的框架内。紧凑的设计确保设备使用灵活，避免了许多安装工作，具有极强的通用性，没有PLD经验的用户也可以轻易上手。
PLD-WorkstationPLD-Workstation将先进的沉积技术融入到功能强大而紧凑的设备中-应用广泛。
全封闭激光光路，从外部调整反射镜等，避免使用者暴露在紫外激光中准分子激光器和激光气体与外部排气管道相连真空腔室- 结构灵活真空腔室专为科研而设计，多个备用法兰用于常规的原位分析工具或系统扩展
光学分析OES 或FTIRRHEED质谱仪其他沉积源或等离子体源羽辉控制- 强大的自动化平台SURFACE 的PLD 设备自动控制整个沉积工艺，设备操作简单基于Windows 操作系统下LabView 程序编写的PLD 控制软件多个工艺步骤可合并到一个沉积程序中直观的工艺过程可视化操作，高度灵活的数据记录和导出，优异的自我测试能力客户支持SURFWARE 软件- 先进的客户支持工具
快速联系到SURFACE 支持团队SURFACE 支持工程师可以远程控制PLD 设备，并提供视听支持快速解决硬件问题和客户的工艺编程问题软件自动升级规格准分子激光器Coherent COMPexPro 201F or 205F波长248 nm激光气体20 l 预混气体，10 l 氦气工艺气体2x MFC 通道衬底加热器2”850 ℃ 或1000 ℃ 1”或3”可选衬底转速0-50 RPM靶台4x2”靶，转速0-50 PRM控制系统基于电脑控制，集成的TFT 显示器IT 特色局域网连接，SURFWARE 支持软件设备尺寸约 2200x850x1600 mm供电3x400 VAC/50 Hz 或3x208 VAC/60 Hz水冷含水冷机